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電磁屏蔽室運行整體結構和電磁屏蔽室運行原理

發(fā)布時間:2021-02-02 瀏覽:3724次 返回列表
電磁屏蔽室運行整體結構和電磁屏蔽室運行原理

  電磁屏蔽室是利用導電或者導磁材料制成的各種形狀的屏蔽體,將電磁能力在一定空間范圍內,用于抑制輻射干擾的金屬體。并對傳導和輻射進行處理,以實現給被測無線通訊設備提供無干擾的測試環(huán)境的設備。

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  先從屏蔽的基礎說起,一般認為交變電壓源近場為高阻抗場,主要分量為電場;而交變電流源近場為低阻抗場,主要分量為磁場。分析電磁場近場特性對屏蔽設計十分重要,對于高阻抗場,由于波阻抗大,主要是依靠反射損耗增加屏蔽效能;而對于低阻抗場,由于波阻抗十分小,反射損耗已經可以忽略,主要是依靠吸收損耗增加屏蔽效能。

  一是借助電路理論中的電磁感應原理

  交變電磁場通過金屬材料表面時,金屬材料會由于感應電動勢而形成渦流。這個渦流所產生的磁場,正好與原來的磁場方向相反,從而抵消了部分原來的磁場,起到屏蔽作用。另外,由于金屬材料具有一定的電阻,渦流在金屬材料內部產生熱消耗了部分入射電磁波的能力,同樣也起到了屏蔽的作用。

  二是根據電磁場理論

  電磁波在不同傳播媒質的界面,由于波阻抗的突變,電磁波會發(fā)生反射。另外,在傳輸媒質中,例如金屬材料內部,電磁波會發(fā)生衰減。這種反射和衰減作用正好就說明金屬材料的屏蔽機理。

  三是根據傳輸線理論

  電磁波在有損耗的非均勻傳輸線中,由于傳輸線的阻抗與電磁波的阻抗不匹配,電磁波會發(fā)生反射現象,加上傳輸線是有損耗的,電磁波在傳輸過程中會發(fā)生衰減。這與電磁波理論分析中的反射和衰減十分類似,但是這種方法會比電磁波的分析方法更加簡便得多,也是目前電磁屏蔽分析中應用方法。


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